LaF3 (氟化镧)晶体基片
发布时间: 2024-04-09 23:40:16 浏览次数:1282
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                  产品名称  LaF3晶体基片  技术参数  晶体结构:三方晶系  晶格常数: a=7.190
  Å   c=7.367 Å  纯度:99.99%  密度:5.936 g/cm3  硬度:4.5 Mohs  熔点:1493℃  生长方向:  热膨胀系数:11.9  x10-6/ K // c 
  15.8  x10-6/ K // a   热导率:5.1 W / m.k @ 300K  光传输范围:Up to 10.5 micron
  wavelength   折射率 no : 1.63   ne:
  1.597   生长方法:提拉法  产品规格  常规晶向: 、、   常规尺寸:10x10x0.5mm  抛光情况:单抛、双抛  标准包装  1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装  晶体缺陷  人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。 
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销售热线: 0371-6320 2801
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高经理: 188-3829-0747
黄经理: 188-3829-0748
Email: nbd@nbdkj.com
地址:郑州·新郑·新华街道竹园8号
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