五温区方管烧结炉

发布时间: 2025-04-10 22:32:20    浏览次数:41

1500℃五温区方管烧结炉是一种高性能的高温加热设备,专为满足材料科学、冶金、电子器件等领域对复杂热处理工艺的需求而设计。该设备具备五个独立控温区域,能够在严格控制的温度梯度下进行精确的烧结处理,特别适用于需要在高温和特定气氛条件下操作的应用场景。


应用场景

  1. 材料科学研究
    • 新材料合成:通过多温区设计模拟不同温度梯度下的材料合成过程,研究材料的相变行为和微观结构。
    • 金属热处理:对金属材料进行退火、淬火等热处理工艺,提升其物理性能。
  2. 化学工程
    • 催化剂制备:利用多温区梯度加热技术制备高性能催化剂,优化其催化活性和选择性。
    • 化学反应研究:研究高温条件下的化学反应动力学和机理。
  3. 电子与半导体
    • 晶圆处理:对半导体晶圆进行退火、氧化物生长等工艺步骤,提高器件性能。
    • 电子元件封装:对电子元件进行焊接后的助焊剂残留物去除,确保产品质量。
  4. 能源领域
    • 电池材料制备:生产高性能电池材料(如锂离子电池正负极材料),要求在无氧环境下进行高温处理。
  5. 机械制造
    • 高强度合金制备:制备具有特殊性能的高强度合金,用于航空航天、汽车制造等领域。


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设备特点:

1. 五温区独立控温

分区精准控制:五个独立温区设计,每个温区配备独立的PID控制器,可以分别设定和调节温度,形成精确的温度梯度。

灵活调整:支持不同区域设置不同的升温速率、保温时间等参数,以适应复杂的实验或生产工艺需求。

2. 高温性能:优选高温材料硅碳棒作为加热元件,确保设备能够在极端高温环境下稳定运行。

长期稳定性:优化设计的加热系统和保温层,保证长时间高温工作时的温度均匀性和设备寿命。

3. 高精度控温

PID智能温控系统:采用先进的PID控制器,确保温度控制精度达到±1°C,满足对温度敏感的工艺要求。

实时监控:内置高精度温度传感器,实时监测每个温区的温度变化,确保工艺条件的一致性。

4. 多种气氛环境

真空和气氛保护:支持在真空或惰性气体(如氮气、氩气)、还原性气体(如氢气)环境下操作,防止样品氧化或发生其他化学反应。

流量控制:配备质量流量控制器(MFC),精确控制输入气体的流量,确保实验条件的一致性和重复性。

5. 高效加热系统

快速升温:先进的加热技术能够实现快速升温,缩短预热时间,提高工作效率。

均匀加热:优化设计的加热元件布局,确保炉膛内温度分布均匀,避免局部过热或加热不足的情况。

设备名称

五温区方管烧结炉

规格型号

NBD-T1200-280/160T5-30

供电电源

三相380V 50HZ

额定功率

30KW

温区数量

单温五控

控温精度

±1℃

加热元件

硅碳棒

传感器类型

K型热电偶φ1*350mm

Tmax

1100℃

额定温度

1000℃

推荐升温速率

10℃/min

炉膛温区尺寸

1600*高285*深360mm

炉管规格

280*高180(厚度8mm)

浮子流量计

3-30L/min

进气口规格

Φ6.35双卡套接头

排气口规格

Φ15mm宝塔头

真空泵类型

DRV16 KF25接头 抽气速率10L/s

炉体尺寸

2890*高1800*深880mm

炉体重量

1020KG




加热炉膛

控制系统

1、烧结工艺曲线设置:动态显示设置曲线,设备烧结可预存多条工艺曲线,每条工艺曲线可自由设置;

2、可预约烧结,实现无人值守烧结工艺曲线烧结;

3、实时显示烧结功率电压等信息并记录烧结数据,并可导出实现无纸记录;

4、具有实现远程操控,实时观测设备状态;

5、温度校正:主控温度和试样温度的差值,烧结全程进行非线性修正。

压力测量与监控



采用机械压力表,表外壳为气密型结构,能有效保护内部机件免受环境影响和杂物侵入,同时具有较强的耐腐蚀和耐高温的能力。


供气系统



采用浮子流量计控制气体流速,与设备集成为一体,且出厂前已进行漏气测试工作
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